NIMS分子・物質合成プラットフォーム

技術セミナー（共催：株式会社日立ハイテクサイエンス）

「蛍光指紋（3次元蛍光パターン）の測定と利用」

【日時】2019年 7月 30日（火）

午前の部10:00～12:30、午後の部14:00～16:30

【会場】物質・材料研究機構　千現地区

材料信頼性実験棟２階　ナノ融合ステーション

・参加費　無料

・午前の部、午後の部で各定員５名ずつ。

・概要

蛍光の計測において励起スペクトル、蛍光スペクトルを同時に計測する３次元蛍光スペクトルを取得することができ、このパターンをいわゆる蛍光指紋として種々の物質・材料の解析に用いることができます。この蛍光指紋の測定法と利用法を装置メーカーより講師をお招きし、概要をご説明いただき、さらにプラットフォームの装置を用いて、デモンストレーション測定を実施します。（デモ測定用サンプルは当方で用意したものです。）

・プログラム

【午前の部】

9:30　受付開始

10:00－10:35　　NIMS分子・物質合成プラットフォームの紹介（NIMS　箕輪）

10:35－11:15　　レクチャー（株式会社日立ハイテクサイエンス）

11:20－12:30　　装置デモンストレーションおよび質疑

【午後の部】

13:30　受付開始

14:00－14:35　　NIMS分子・物質合成プラットフォームの紹介（NIMS　箕輪）

14:35－15:15　　レクチャー（株式会社日立ハイテクサイエンス）

15:20－16:30　　装置デモンストレーションおよび質疑

・申し込み方法

メールで件名に「蛍光指紋セミナー」とお書きの上、

SML-office[at]nims.go.jp　（[at]を＠に換えてください。）にご連絡ください。

お問い合わせ電話番号　029-859-2399　（担当　箕輪）