NIMS分子・物質合成プラットフォーム
技術セミナー(共催:株式会社日立ハイテクサイエンス)
「蛍光指紋(3次元蛍光パターン)の測定と利用」
【日時】2019年 7月 30日(火)
午前の部10:00~12:30、午後の部14:00~16:30
【会場】物質・材料研究機構 千現地区
材料信頼性実験棟2階 ナノ融合ステーション
・参加費 無料
・午前の部、午後の部で各定員5名ずつ。
・概要
蛍光の計測において励起スペクトル、蛍光スペクトルを同時に計測する3次元蛍光スペクトルを取得することができ、このパターンをいわゆる蛍光指紋として種々の物質・材料の解析に用いることができます。この蛍光指紋の測定法と利用法を装置メーカーより講師をお招きし、概要をご説明いただき、さらにプラットフォームの装置を用いて、デモンストレーション測定を実施します。(デモ測定用サンプルは当方で用意したものです。)
・プログラム
【午前の部】
9:30 受付開始
10:00-10:35 NIMS分子・物質合成プラットフォームの紹介(NIMS 箕輪)
10:35-11:15 レクチャー(株式会社日立ハイテクサイエンス)
11:20-12:30 装置デモンストレーションおよび質疑
【午後の部】
13:30 受付開始
14:00-14:35 NIMS分子・物質合成プラットフォームの紹介(NIMS 箕輪)
14:35-15:15 レクチャー(株式会社日立ハイテクサイエンス)
15:20-16:30 装置デモンストレーションおよび質疑
・申し込み方法
メールで件名に「蛍光指紋セミナー」とお書きの上、
SML-office[at]nims.go.jp ([at]を@に換えてください。)にご連絡ください。
お問い合わせ電話番号 029-859-2399 (担当 箕輪)