課題番号                ：S-18-NM-0005

利用形態                ：機器利用

利用課題名（日本語）    ：コロイダル量子ドットの研究開発

Program Title (English) ：The development of colloidal quantum dots

利用者名（日本語）     ：長久保準基、 平川正明

Username (English)      ：Junki Nagakubo, Masaaki Hirakawa

所属名（日本語）　　　  ：株式会社アルバック 未来技術研究所

Affiliation (English)   ：ULVAC, Inc. Future Technology Research Section.

１．概要（Summary）

ナノ粒子合成後の洗浄による不純物除去量や配位子の変化をNuclear Magnetic Resonance（NMR）を利用することで評価する。

配位子への影響が少なく、不純物除去量の多い洗浄方法を見出した。

２．実験（Experimental）

【利用した主な装置】

・NMR装置　ECS-400

【実験方法】

ナノ粒子を合成し、アセトン沈殿させ回収したサンプルと長時間冷却し回収したサンプルの２種類の洗浄手法を用いて回収したサンプルを用意し、各5 mgずつ秤量し、溶液高さがおよそ4 cmになるようにCDCl₃をチューブ内で混合した。完全に溶解していることを確認し、その後ECS-400上方に設置されているオートサンプラーへの取り付けを行い、1H NMRのケミカルシフトの測定を行った。

３．結果と考察 （Results and Discussion）

Fig.1からアセトン洗浄サンプルでは、5.0ppm付近、および5.8ppm付近の溶媒起因ピークが多く検出されている。それに比較し、長時間冷却サンプルは、溶媒起因ピークが小さくなっていることが確認できた。長時間冷却の方が、溶媒をしっかりと除去できることが確認できた。長時間冷却することで、溶媒と洗浄液の混合が良くなり、除去量が多くなったと考えられる。

Fig.1 1 H NMR spectrum (400 MHz, CDCl₃ ) of QD

４．その他・特記事項（Others）

・ナノ粒子開発のバックデータとなっている

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）

なし

６．関連特許（Patent）

なし