課題番号 ：S-18-JI-0026
利用形態 ：技術代行
利用課題名（日本語） ：二次原子膜へのnm径微細加工技術の開発および加工ダメージの評価
Program Title (English) ：Development of microprocessing technique for two dimensional atomic films and evaluation of the processing damage
利用者名（日本語） ：小川真一1)
Username (English) ：Shinichi Ogawa1)
所属名（日本語） ：1) 産業技術総合研究所
Affiliation (English) ：1) AIST

１．概要（Summary ）
ヘリウムイオン顕微鏡は汎用のガリウムイオンを利用した収束イオン顕微鏡よりもっと小さいプローブを作れるため、より微小な加工はできる。本研究では、ナノフォノニクス技術を開発するために、ヘリウムイオン顕微鏡を利用してグラフェンなどの二次元膜にナノポアを作製した。できた構造体は透過型電子顕微鏡を用いて評価した。

２．実験（Experimental）
　TEMグリッドに転写したグラフェン膜の被覆率を確認するために、H7650を利用した。ナノポアの形状、構造を評価するのはARM200Fを使用した。

３．結果と考察（Results and Discussion）
　

図１　グラフェンに作製したピッチ１０と５０のナノポアの配列（SEM像）。

４．その他・特記事項（Others）
なし

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし

６．関連特許（Patent）
なし