課題番号 ：S-19-NM-0032
利用形態 ：機器利用
利用課題名（日本語） ：新規アルカリ系現像液の探索
Program Title (English) ：Investigation of new alkali-based developer solutions
利用者名（日本語） ：ジュリウスジョセフ サンティリャン
Username (English) ：JULIUS JOSEPH SANTILLAN
所属名（日本語） ：大阪大学　産業科学研究所
Affiliation (English) ：Osaka University, The Institute of Scientific and Industrial Research

１．概要（Summary）
光リソグラフィによるパターン形成技術では、フォトレジストの現像工程があり、微細パターンを形成させるため非常に重要な工程とされている。この工程で、水溶液アルカリ現像液が主に使用されているが、更に微細なパターンを形成させるためには、新たな現像液の探索が必要になってきている。そのため、シリコン上に塗布したフォトレジスト膜上の現像液の濡れ性（接触角）に着目し、スクリーニングを行った。

２．実験（Experimental）
【利用した主な装置】
 接触角測定装置（VCA Optima-XE）

【実験方法】
国立研究開発法人物質・材料研究機構の分子・物質合成プラットフォームで、接触角測定装置（AST Products社製VCA Optima-XE）を用いて、準備したフォトレジスト材料（ウェハに塗布した膜）に対する多種類のアルカリ系現像液の静的接触角を測定した。
本検討には、フッ素系界面活性剤を添加した0.26N TMAH（Tetramethylammonium hydroxide）水溶液を用いた。更に、微細パターンのパターン倒れ現象に有効な効果がある0.26N TBAH（Tetrabutylammonium hydroxide）水溶液も用いた。

３．結果と考察（Results and Discussion）
Figに示しているのは、0.26N TMAHと0.26 TBAH現像液の接触角（フォトレジスト上）のフッ素系界面活性剤の添加濃度依存性である。
無添加の場合、TMAHの接触角は67.3°に対し、TBAHでは比較的低く56.4°だった。界面活性剤の添加濃度を増加したことにより両現像液の接触角が共に低下する傾向であった。しかし、TMAH現像液と比べて、TBAH現像液での接触角の変化は少ないとのことがわかった。
これらの特性を活かし、本研究を継続する予定。

４．その他・特記事項（Others）
装置に利用にあたりNIMS李潔氏の支援を受けた。

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし

６．関連特許（Patent）
なし