課題番号 ：S-18-OS-0045
利用形態 ：機器利用
利用課題名（日本語） ：石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
Program Title (English) ：Nano dot pattern microfabrication on quartz substrate
利用者名（日本語） ：笠　晴也
Username (English) ：H.KASA
所属名（日本語） ：日本山村硝子株式会社　ニューガラスカンパニー
Affiliation (English) ： NIHON YAMAMURA GLASS CO.,LTD.
キーワード／Keyword　　　：周期構造　石英微細加工

１．概要（Summary）
ガラス成形技術を応用した光学素子の作製を考えているが、ガラス成形用の金型をいきなり作ろうとすると効率が悪いため、石英基板で周期構造を作製し、微細加工条件の探索を行うことにした。

２．実験（Experimental）
【利用した主な装置】
　RFスパッタ装置・電気炉
　
【実験方法】
スパッタ装置にてタングステン（W）薄膜を石英基板上に成膜し、電子線描画用のレジストを塗布し、ベークする。電子線描画装置にて周期100～250nmのドットパターンを描画する。描画後、現像しSF6ガスにてレジスト形状をもとにW薄膜をドライエッチングし、Wメタルマスクを作製する。次にWメタルマスクをもとに石英基板をドライエッチングする。石英基板には、穴形状ができるが穴径や間隔をコントロールし、微細形状と光学特性が最適になる条件を探っていった。

３．結果と考察（Results and Discussion）
Fig.1は、タングステン（W）メタルマスクにてドライエッチングした石英基板表面である。ドットパターンを作製することができた。EB描画条件、メタルマスク作製条件、石英ドライエッチング条件を最適化することができた。今後は、周期や穴径、穴深さをコントロールすることで光学特性の向上を考えていきたい。

Fig.1

４．その他・特記事項（Others）
なし

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし

６．関連特許（Patent）
なし