課題番号 ：S-20-OS-0025
利用形態 ：機器利用
利用課題名（日本語） ：石英基板上におけるナノドットパターン微細加工
Program Title (English) ：Nano dot pattern microfabrication on quartz substrate
利用者名（日本語） ：笠　晴也
Username (English) ：H.KASA
所属名（日本語） ：日本山村硝子株式会社　ニューガラスカンパニー
Affiliation (English) ：NIHON YAMAMURA GLASS CO.,LTD.

１．概要（Summary ）
貴金属ナノ粒子によるランダムナノ微細形状の作製。

２．実験（Experimental）
S１０　 RFスパッタ装置
S１１ 高温熱処理装置

貴金属ナノ粒子をメタルマスクとしてドライエッチングを行い、50～500nm程度の微細ランダム形状を作製。反射防止、撥水の機能を発現するサンプル作製を行い評価する。

３．結果と考察（Results and Discussion）
　Fig.1は、作製した石英微細撥水構造である。目標の50～500nm程度のランダム形状微細形状ができていることが分かった。波長600nmにおける反射率は、1%程度であった。
　Fig.2は、石英微細構造を撥水処理した後、接触角を測定したときの画像である。接触角は140度程度であり、高撥水ガラスを作製することができた。

Fig.1　 SiO２　Nano dot pattern

Fig.2　 Drop of water

４．その他・特記事項（Others）
なし
５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし
６．関連特許（Patent）
なし