課題番号（Application Number）：S-16-NR-0012
利用形態（Type of Service）：機器利用
利用課題名（日本語） ：蛍光X線分析における薄膜FP定量法の正確度向上
Program Title (English) ：Improvement of FP method of XRF system
利用者名（日本語） ：池下　昭弘, 青木　悠
Username (English) ：IKESHITA Akihiro, AOKI Yu
所属名（日本語） ：株式会社　リガクSBU薄膜デバイス
Affiliation (English) ：Rigaku., Ltd.

１． 概要（Summary ）
蛍光X線分析装置(XRF)のFP定量法での膜厚分析の正確度向上のため、エリプソメータの分析値を行い、FP計算のパラメータ成分の改善の一助とした。

２．実験（Experimental）
10点程度の異なる膜種について当社のXRF装置と分光エリプソメータ(HORIBA UVISEL)でそれぞれ膜厚分析を行い、分析値の比較検討を行った。

＜分光エリプソメーター＞

３．結果と考察（Results and Discussion）
SiO2厚膜や、金属酸化薄膜において、当社装置の分析値がエリプソメータ分析値と最大で5%の誤差が見られた。これに対し、初期の密度設定値や自己吸収係数パラメータを変化させ併せこむことによって改善