課題番号 ：S-20-SH-0005
利用形態 ：共同研究型
利用課題名（日本語） ：計測機器の性能向上
Program Title (English) ：Improvement of measurement equipment performance
利用者名（日本語） ：佐々木画有呂
Username (English) ：E. Sasaki
所属名（日本語） ：長野計器 株式会社
Affiliation (English) ：NAGANO KEIKI Co., Ltd.

１．概要（Summary ）
計測機器の性能向上を目的に新規薄膜パターン形成に関する研究開発を行っている。欠陥が無く、より形状再現性の良いパターンの作製を目指す。

２．実験（Experimental）
薄膜パターン形成パラメータの水準試験として、新規洗浄方法の検討を行った。この方法による洗浄後の表面状態についてX線電子分光分析装置(XPS): PHI QuanteraⅡで表面分析を行い、表面のコンタミの状態について、従来方法との比較を実施した。

３．結果と考察（Results and Discussion）
写真1に表面外観と分析箇所、図1にwide分析のスペクトル、表1に定量結果を示す。分析の結果、表面から検出された炭素量は新規方法の方が少なく、また、他に特異な元素は検出されなかった。このことから、新期洗浄手段による洗浄状態は従来と同等以上であると認められ、これら、工程の最適化検証により、コンタミのない良好なパターンを得るに至った。

４．その他・特記事項（Others）
ナノテクノロジープラットフォーム事業の機器利用にあたり、ご指導頂きました森本信吾特任教授、小畑美智子研究員に感謝申し上げます。
表1．定量結果
洗浄方法
Si膜 [atomic%]
SiO2膜 [atomic%]
C1s
O1s
F1s
Si2p
C1s
O1s
F1s
Si2p
新規
12.1
36.0
0.2
51.7
8.5
62.5
2.1
26.9
従来
14.5
35.2
0.0
50.3
16.6
54.4
8.6
20.4

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし。

６．関連特許（Patent）
なし。

新期
洗浄

従来
洗浄