課題番号 ：S-17-SH-0001
利用形態 ：共同研究型支援
利用課題名（日本語） ：計測機器の性能向上
Program Title (English) ：Performance Improvement of measuring System
利用者名（日本語） ：佐々木画有呂
Username (English) ：E. Sasaki
所属名（日本語） ：長野計器 株式会社
Affiliation (English) ：NAGANO KEIKI Co., Ltd.

１．概要（Summary ）
計測機器の性能向上を目的に新規薄膜パターン形成に関する研究開発を行っている。欠陥が無く、より形状再現性の良いパターンの作製を目指す。

２．実験（Experimental）
薄膜パターン形成パラメータの水準実験を行った結果、条件によりφ10.5×5mmの試験基板上にシミ状のコンタミネーションが発生した。この試験基板表面のコンタミについてX線電子分光分析装置(XPS): PHI QuanteraⅡにより分析を行なった。

３．結果と考察（Results and Discussion）
写真1に基板の分析箇所、図1にワイドスキャンスペクトルを示す。結果、コンタミネーションからセリウム及びフッ素の存在が確認された。材料分析によりコンタミは複数の薄膜パターン形成プロセスからの由来である事が判り、それら、工程の最適化検証によりコンタミのない良好なパターンを得るに至った。

４．その他・特記事項（Others）
ナノテクノロジープラットフォーム事業の機器利用にあたり、ご指導頂きました森本信吾特任助教、小畑美智子研究員に感謝申し上げます。

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし。

６．関連特許（Patent）
なし。