薄膜／ナノ調製加工
| スピンコーター | ミカサ株式会社製 １HD7 株式会社共和理研製 K-359S1 計2台 |
千歳大 | |
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| 自己組織化構造作製装置 | 自己組織化構造作成装置 ユーエスアイ･システム社製 ESD-23改 | 移動速度：0.1-99.9mm/min | 千歳大 |
| 液晶配向膜ラビング装置 | 液晶配向膜ラビング装置 日本文化精工社製（自作） | 真空吸着テーブルサイズ（50Ｘ50 mm） ラビングローラー回転速度可変<1000rpm テーブル移動速度調節可 真空吸着テーブルθ調整機構付き |
千歳大 |
| プラズマエッチング装置 | プラズマエッチング装置 サムコ社製 FA-1 | 千歳大 | |
| プラズマ処理装置 | プラズマクリーナー ヤマト科学製： PDC200 | プラズマモード RIE 電極構造 平行平板 高周波出力 100～300W 発信周波数 13.56MHz | NIMS |
| スプレードライヤー | スプレードライヤー Buchi製：スプレードライヤー B-290 | ヒータ 2300W スプレーガス 圧縮空気または窒素 200-1000L/h、5-8bar 最大風量 35m3/h 流量 1.0L/h | NIMS |
| 凍結乾燥機 | 凍結乾燥機 Vertis製：凍結乾燥機 Freezemobile | NIMS | |
| 反応性イオンエッチング装置 | 反応性イオンエッチング装置 サムコ社製 RIE-10NR | 試料サイズ：max 8 inch ガス種：Ar,CF4, O2 | 大阪大 |
| 集束イオンビーム加工(FIB) | 集束イオンビーム加工装置(FIB) SIIナノテク社製 SMI3050 | 北陸先端大 | |
| 集束イオンビーム加工機(FIB) 日本電子社製JEM-9310FIB | 試料1インチまで、SEM, TEM用加工可 | 分子研 | |
| 炉 | 赤外線加熱単結晶製造装置 FZ炉 NEC（現キヤノン マシナリー）社製 SC-M50XS | 最高加熱温度：2700℃ | 千歳大 |
| 電気炉 アドバンテック製：電気炉 FUH632DA | NIMS | ||
| 高温熱処理装置（ｾﾗﾐｸｽ電気管状炉） 誠南工業社製 ARF-30K | 真空度：～10E-5Pa 温度：～1000℃ | 大阪大 | |
| ナノカーボン作製装置群 | 触媒CVD装置 | 信州大 | |
| プラズマ表面処理装置 | 信州大 | ||
| ナノファイバー合成装置 | 信州大 | ||
| ナノコンポジット作製装置群 | ２軸押出混練装置 | スクリュー直径 : 15mm 軸長/軸径比(L/D): 60 最大溶融温度: 約450℃ 最大混錬速度 : 1kg/h | 信州大 |
| ラボプラストミル | 最高温度：400℃ 混錬部容積：60cc （最大材料投入量は50cc） 最大トルク：500N・m 他 | 信州大 | |
| 精密触媒制御ナノカーボン合成・分析装置 | ULVAC製 (触媒層形成室(MBE室)、ナノカーボン合成室(CVD室）、分析室(STM室)) | 触媒層形成室(MBE室)： 到達圧力8×10-8Pa 分子線蒸発源は1250℃以上を含む４セルを装備 （当初使用予定Fe,Ni）、液体窒素シュラウドあり。 ナノカーボン合成室（CVD室）： 減圧、大気圧CVD可能 到達温度800℃以上、メタン、水素、窒素、酸素導入 分析室（STM室）： 到達圧力8×10-8Pa HOPG結晶の超高真空中で原子像の観察を担保 自動基板搬送システム： 試料導入室から、MBE準備室、分析準備室、CVD室まで高真空中を自動搬送。 |
信州大 |
| 超高性能ダイヤモンド電極作製・分析装置 | 高出力マイクロ波プラズマCVD（コーンズテクノロジー） 顕微レーザーラマン分析 比抵抗／ホール測定システム （東陽テクニカ 昇温ユニット付き） プラズマ照射機能 精密小型試料研磨機 |
信州大 | |
| プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置 | プラズマ・ガス凝縮クラスター堆積装置 日本ビーテック社製、特別仕様 | クラスターサイズ 直径3～15nm 直流マグネトロンスパッタリング方式 | 名工大 |
| 中規模カーボンナノファイバー室温合成装置 | 中規模カーボンナノファイバー室温合成装置： 自作 | 名工大 | |
| 特型表面ナノ構造形成装置 | ULVAC社製 特型 | 標準２インチ基板、超斜め入射イオンビームによるマスクレスの表面ナノ構造・ナノドット形成可能、組成制御可能、高分子材料の加工可能 | 名工大 |
| グラフェン・カーボンナノチューブ合成装置 | 自作特型； | ＣＶＤによるグラフェン、単層CNTの合成 | 名工大 |
| 超精密電子材料基板平坦化装置 | MAT社製 | 基板直径２インチ以下。場合により８インチまで要応談。小径加工（10mm)であれば0.1度刻みで面方位制御可能。 | 名工大 |
| マスクレス露光装置 | ナノシステムソリューションズ社 DL-1000/IMC 精密温度調整機能付クリーンブース（アイテックス、CSC4747C） マスクアライナー（ミカサ社製MA-10） スピンコーター（ミカサ社製MS-A100） | 分子研 | |
| 3次元CAD機能付ワイヤー放電加工システム | 放電加工機：Sodick社 AG-400LE 3次元CAD：Solidworks社 Solidworks Professional TIG溶接機： 日立製作所 150NPX ボール盤： キラコーポレーション KRT-340 電気ベルトサンダー： 淀川電機製作所 FS-20N 電気グラインダ： 淀川電機製作所 FG-205T NCフライス盤： オークマホーワ FMB-40 旋盤： 滝澤鉄工 TAL-460 |
物理系ナノ材料の試作・評価用機器の試作・改良 ・既設の真空装置（チャンバー）の部品、機構の改良 ・新設する機械部品の設計、試作、CAD図面の提供 ・機械部品の設計時におけるノウハウ、技術指導 |
北陸先端大 |
| 装置開発 | NCフライス盤 (牧野フライス BN5-85A6) NC旋盤 (Mazak SUPER QUICK TURN 100MY) 電子ビーム溶接機 (日本電気 EBW(1.5)500×400×500) プリント基板加工機 (Accurate A427A) 構造解析ソフト (アンシス・ジャパン ANSYS DesignSpace) など各種工作機器。 |
市販品では実現できない研究用装置類の金属工作図面作成、電気電子回路設計、それらの製作および性能評価 | 分子研 |
