利用報告書

ラマン分光によるグラフェンの構造評価
金井 康 1) , 小野 尭生 1) , 坂野 喜代治 1) , 谷奥 正巳 1) , 南保舞子 1) , 山本 佳織 1) ,牛場 翔太 2) 
1) 大阪大学 産業科学研究所, 2) 村田製作所

課題番号 :S-18-OS-0031
利用形態 :機器利用
利用課題名(日本語) :ラマン分光によるグラフェンの構造評価
Program Title (English) : Structural analysis of graphene using laser Raman spectroscopy
利用者名(日本語) ::金井 康 1) , 小野 尭生 1) , 坂野 喜代治 1) , 谷奥 正巳 1) , 南保舞子 1) , 山本 佳織 1) ,牛場 翔太 2) 
Username (English) :Y. Kanai 1), T. Ono 1), K. Sakano 1), M. Tanioku 1), N. Maiko 1), K. Yamamoto 1), S. Usiba 2),
所属名(日本語) :1) 大阪大学 産業科学研究所, 2) 村田製作所
Affiliation (English) :1) ISIR Osaka University, 2) Murata, Co., Ltd.
キーワード/Keyword    :グラフェン、レーザーラマン顕微鏡、走査型電子顕微鏡

1.概要(Summary)
化学気相成長法によって合成した多結晶グラフェンをSi/SiO2基板に転写する際、グラフェンが受ける物理的ストレス低減させる転写法での膜質特性をラマン分光測定で調べた。

2.実験(Experimental)
【利用した主な装置】
レーザーラマン顕微鏡、走査型電子顕微鏡
【実験方法】
化学気相成長法によって銅箔状にグラフェンを合成した。合成後、銅箔のグラフェンを合成した側にPMMAをスピンコートした。その後、スピンコートしていない表面を過硫酸アンモニウム溶液に浮かべて、銅箔のエッチングを行った。エッチング完了後Si/SiO2基板上にグラフェンを転写させるが、従来より採用している転写法(純水に浮かべた後にSi/SiO2基板で掬い上げて転写)と、転写時に物理的ストレスが少ないメリットがある新規ストレスフリー転写法を実施した。PMMA除去後、レーザーラマン顕微鏡を使用して、ラマン分光測定を行い、両者の相違を調べた。

3.結果と考察(Results and Discussion)
図1は、ラマン分光による転写後のグラフェンFETで、均一なグラフェンが転写されていることがわかる。図2は、物理ストレスが少ない新規の転写法及び従来の純水水面からの転写法でのグラフェン部分のスペク

Fig.2 ラマン分光スペクトル

トルで、両者ともG及び2Dピークが発現し良質なグラフェンが得られていることがわかる。今回、スペクトルで見る限りでは、両者の膜質の有意差は得られなかった。しかし、新規の転写法においても、従来の転写法と遜色のない良質なグラフェンが得られることが確認された。今後、更にFETの電気特性の測定により、解析を進める、

4.その他・特記事項(Others)
各装置の操作方法について御説明して頂いた分子・物質合成PFの支援員の方に感謝いたします。

5.論文・学会発表(Publication/Presentation)
(1) 山本 佳織, 第79回応用物理学会秋季学術講演会, 平成30年9月19日

6.関連特許(Patent)
なし。

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