課題番号                ：S-19-NU-0016

利用形態                ：機器利用

利用課題名（日本語）    ：新規サンプルへの機器対応評価

Program Title (English) ：

利用者名（日本語）      ：大畑 誠輝

Username (English)     ：S.Ohata

所属名（日本語）        ：株式会社ニコンインステック

Affiliation (English)  ：NIKON INSTECH Co., Ltd.

１．概要（Summary ）

名古屋大学分子/物質合成プラットフォームに弊社製

品がナノバイオ分子合成・超解像解析評価システムと

して登録されている。1）多光子レーザー及びビジブルレーザーを使用したレーザー顕微鏡システム。2）SIM、STORM法を使用した超解像顕微鏡システムの利用が可能である。中部地区において生体試料、マテリアル材料等の測定条件、手法の開発を推進することを計画した。

２．実験（Experimental）

GaN基板 50x対物レンズで1cm角の全面スキャンを希望する案件での検討を行った。この観察は膨大な画像取得になるため、Large Image機能を実施すると、ソフトのクラッシュ等発生がおこることも予測された。このため、Large Imageとしてつなぎ合わせるのはやめ、LargeImageではなく多点の機能を用いて実施することにした。GaN試料において50xにすると、1視野ごとにフォーカスも結構変わるため、各視野でオートフォーカスを行った。視野ごとに輝度も結構変わるので、各視野でオートゲインも実施した。加えて、Zシリーズの観察も実施した。

【使用機器】ナノバイオ分子合成・超解像解析評価システム（ニコン A1RMP（多光子レーザー顕微鏡））

３．結果と考察（Results and Discussion）

この分野において非破壊での3D情報取得の必要性が高いことが確認された。斜めに走っている欠陥については、電顕による観察では予測違いを起こす場合もあり、その手間をなくすために本手法の重要性を感じる。また企業においては観察のスループットが良いことも必要条件とされる。

これまで数々の実験を進めることで、ユーザーの要望するシステムについての有用なヒントが得られた。

４．その他・特記事項（Others）

なし

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）

なし

６．関連特許（Patent）

なし