課題番号 ：S-19-SH-0010
利用形態 ：共同研究型支援
利用課題名（日本語） ：計測機器の性能向上
Program Title (English) ：Improvement of measurement equipment performance
利用者名（日本語） ：佐々木画有呂
Username (English) ：E. Sasaki
所属名（日本語） ：長野計器 株式会社
Affiliation (English) ：NAGANO KEIKI Co., Ltd.

１．概要（Summary ）
計測機器の性能向上を目的に新規薄膜パターン形成に関する研究開発を行っている。欠陥が無く、より形状再現性の良いパターンの作製を目指す。

２．実験（Experimental）
薄膜パターン形成パラメータの水準試験を行った結果、処理方法によってSiO2膜表面の状態に違いが見られた。この違いについて、X線電子分光分析装置(XPS): PHI QuanteraⅡと原子間力顕微鏡(AFM)で表面分析を行った。

３．結果と考察（Results and Discussion）
図1にSiO2膜の XPSによるdepth分析結果、表1にAFMによる表面粗さ測定結果を示す。各処理後のSiO2膜表面を分析した結果、処理Bでは膜表面にコンタミ(CrやF)の堆積が確認され、表面粗さは処理Aより大きな数値となっている。このことから、処理BではSiO2表面にコンタミが発生して膜表面の状態が悪化することが判り、それら、工程の最適化検証により、コンタミのない良好なパターンを得るに至った。

４．その他・特記事項（Others）
ナノテクノロジープラットフォーム事業の機器利用にあたり、ご指導頂きました森本信吾特任教授、小畑美智子研究員に感謝申し上げます。

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし。

６．関連特許（Patent）
なし。