課題番号 ：S-19-KU-0054
利用形態 ：機器利用
利用課題名（日本語） ：超分子形成を用いた簡便な新規染毛・脱染法の開発
Program Title (English) ：Development of a Simple New Hair Dyeing and Distaining Method Using Supramolecular Formation
利用者名（日本語） ：王尊弘1), 八束孝一2), 松川裕子1),　冷　俊夫2)
Username (English) ：Takahiro Oh1), Koichi Yatuduka2), Yuko Matsukawa1), Syunfu Rei2)
所属名（日本語） ：1) 九州大学大学院工学府, 2) 九州大学大学院理学府
Affiliation (English) ：1) Enginieering、 Kyusyu University, 2) Enginieering、 Kyusyu University

１．概要（Summary ）
フルオレセインを直接シクロデキストリンへ修飾する手法はその立体反発の大きさから難しいと考え、ブロモブチル基をフルオレセインへ導入したのちにシクロデキストリンへ導入する経路を用いた (図1)。ブロモブチル基を有するフルオレセイン (Fl-Bu-Br) の合成は文献によって報告されている手法を改善した方法で行い、Fl-Bu-Brと-シクロデキストリンをNaOH存在下、DMSO中で反応させてn個のフルオレセインが縮合したCD-Flnを得た。フルオレセインの修飾数をMALDI-TOF-Msを用いて同定を試みた。

図1 CD-Flnの合成経路

２．実験（Experimental）
合成したCD-Flnをエタノールに溶解させ、マトリックスとして2,5-dihydroxy benzoic acidを用いて、実験を行った。

３．結果と考察（Results and Discussion）
種々の濃度で測定を試みたが、どの濃度条件においても目的物のピークは検出されなかった。これは7、シクロデキストリンがイオン化しにくいためであると考えられる。

４．その他・特記事項（Others）
なし

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし

６．関連特許（Patent）
なし