課題番号 ：S-20-KU-0016
利用形態 ：技術相談
利用課題名（日本語） ：鉄系超伝導体薄膜に添加した水素のSIMS測定
Program Title (English) ：SIMS measurement of hydrogen doped in Fe-based superconducting films
利用者名（日本語） ：波多　聰
Username (English) ：S. Hata
所属名（日本語） ：九州大学
Affiliation (English) ：Kyushu University

１．概要（Summary ）
(001)MgO単結晶基板上に成膜した膜厚25 nmのNdFeAs(O1-xHx)薄膜における水素の分布をSIMS測定により明らかにする。鉄系超伝導体薄膜に添加した水素の膜内分布の二次イオン質量分析および超伝導特性との関連について考察。

２．実験（Experimental）

３．結果と考察（Results and Discussion）

４．その他・特記事項（Others）

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）

６．関連特許（Patent）