課題番号 ：S-20-OS-0066
利用形態 ：機器利用
利用課題名（日本語） ：Si部材のイオンエッチング特性評価
Program Title (English) ：Evaluation of ion etched Silicon surface
利用者名（日本語） ：近藤佑一
Username (English) ：Y.Kondo
所属名（日本語） ：三菱マテリアル株式会社
Affiliation (English) ：Mitsubishi Materials Corporation

１．概要（Summary ）
　異なる表面処理条件を施したSi部材について、イオンミリング装置を用いて耐イオンエッチング性評価を行った。実験の結果、処理条件の違いによりイオンエッチング後の表面状態が異なることを見出した。

２．実験（Experimental）
【利用した装置】
S16 SIMS付きカウフマン型イオンミリング装置

【実験方法】
　異なる表面処理を施したSiバルク材をステージに並べ、同一条件にてArイオンエッチングを施した。処理後の表面状態を光学顕微鏡等で観察した。

３．結果と考察（Results and Discussion）
　初期の表面処理の違いにより、イオンエッチング後の表面形態が異なっていることが明らかになった。

(a) (b)
Fig.1 Surface image of (a)pre-treatment A, and (b)pre-treatment B sample after ion etching.

４．その他・特記事項（Others）
なし

５．論文・学会発表（Publication/Presentation）
なし

６．関連特許（Patent）
なし