分光
紫外可視近赤外分光
| 紫外近赤外分光計 日本分光社製 V-670 | 紫外近赤外分光計 測定範囲： 190-3200nm | 千歳大 |
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| 分光光度計 日立ハイテクノロジーズ製：分光光度計 U-2900 | 波長範囲 190～1100nm スペクトルバンド幅 1.5nm | NIMS |
| 微量分光光度計 サーモ製：微量分光光度計 nanodrop2000 | NIMS | |
| 高分子ナノ薄膜の内部構造・配向構造評価（紫外可視吸収分光装置/光学アタッチメント） Agilent製、8453 | 温度可変、偏光、等 | 名大 |
| 吸光分光光度計 Shimadzu製 UV-1800 | 190 nm～1100 nm、吸光度：-4～4 Abs | 名大 |
| UV-Vis-NIR分光光度計 日本分光製 Ｖ570 | 波長範囲190nm～2500nm、測光範囲-2～3Abs 付属品：絶対反射率測定装置 ＡＲＮ475 １回反射測定装置 ＳＬＭ468 積分球装置 ＩＳＮ470 フィルムホルダ ＦＬＨ466 その他：透過測定には液体N2、液体Heクライオスタットを使用可能 |
名工大 |
| 可視紫外分光光度計 Hitachi U-3500 | 200-3200nm | 分子研 |
| 紫外可視分光光度計 日本分光社製 V-550 | 190nm～1100nmまでの分光分析が可能 1cmセル | 大阪大 |
| 光電変換分子材料評価装置(可視・近赤外光電流効率評価ユニット) 分光計器社製 分光感度・内部量子効率測定装置CEP-2000RR | 測定波長範囲：300-1700 nm | 奈良先端大 |
| UV-Vis-NIR分光光度計 島津製作所社製 SolidSpec-3700DUV | 深紫外領域測定対応、InGaAs検出器搭載 | 九州大 |
| 紫外可視近赤外分光測定装置 日本分光社製 V-670 | Abs=7まで測定可能、積分球対応 | 九州大 |
赤外分光
| フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) 島津製作所社製 FTIR-8700 | 測定範囲： 7800cm-1～350cm-1 | 千歳大 |
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| 顕微赤外測定システム 島津製作所社製 AIM-8800 | 分解能：1μm | 千歳大 |
| フーリエ変換型赤外分光装置(FT-IR) JASCO製 FT/IR-680 Plus | 名大 | |
| FT遠赤外分光 Bruker社製IFS66v | 10-15000cm-1 | 分子研 |
| 赤外・テラヘルツ時間分解分光装置 丸文社製 Pulse IRS 2000-os | 1ps以下の高時間分解能 | 大阪大 |
| フーリエ変換赤外分光光度計(FT-IR) 日本分光社製 6100FV型 MCT-600 | 測定波長領域 0.7μ～45μm | 大阪大 |
蛍光分光
| 分光蛍光光度計 島津製作所社製 RF-5300PC | 蛍光分光器 (3次元分光蛍光光度計) 計測範囲：220-750nm | 千歳大 |
|---|---|---|
| 蛍光光度計 日立ハイテクノロジーズ製：蛍光分光光度計 F-7000 | 励起波長 350nm 測定波長範囲 200～750nm | NIMS |
| 蛍光X線分析装置 リガク社製 EDXL 300 | エネルギー分散型、Heガス置換装置付 | 名大 |
| 蛍光分光光度計 JASCO製 FP-6500 | 10mmセル，ミクロセル使用可 | 名大 |
| ＰＬスペクトル・ＰＬ寿命測定装置 自作 | 励起光源：レーザー(連続波：405、532、596、633nm、ナノ秒パルス：532nm、550nm～900nm) 分光器：470mmシングルモノクロメータ 検出器：電子冷却ＣＣＤ検出器(ＰＬ寿命測定は光電子増倍管+プリアンプ+デジタルオシロスコープ) その他：液体ヘリウムフロー式クライオスタット（5K～300K） |
名工大 |
| 蛍光X線分析装置 JEOL JSX-3400RII | Na-U, RhKα | 分子研 |
| 蛍光分光光度計 HORIBA SPEX Fluorolog 3-21 | Xeランプ, 250-1500nm | 分子研 |
| 近赤外蛍光分光装置 堀場製作所社製 Fluorolog-NIR | 測定範囲：800-1600nm (300-850nmも測定可能) オプションとして温度制御付きセル冷却装置(液体窒素により冷却)を装着可能 | 九州大 |
| シングルフォトンカウンティング蛍光寿命計測装置 浜松ホトニクス社製 | 励起光源Ｎ2レーザー(色素レーザー) | 九州大 |
| 近赤外蛍光分光装置 堀場JOBIN YVON社製 NanoLOG-EXT | 励起:700-1000 nm, 蛍光:1100-2000 nm | 九州大 |
ラマン分光
| 顕微分光システム Photon Design社製 PDP-353 | 顕微分光システム 測定可能波長範囲：250-1000nm | 千歳大 |
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| 顕微ラマン分光 Photon Design社製 RSM-310 | レーザー波長：1064nm マッピング機能あり | 千歳大 |
| ラマンイメージング レニショー社製 | レーザー波長：325nm, 532nm, 785nm 二次元・三次元マッピング機能（0.1μm位置再現性） 波数域：100～4000cm-1 温度調節ステージ |
千歳大 |
| ラマン顕微鏡 ナノフォトン製 Raman plus | レーザー: 532nmレーザーおよび785nmレーザー | NIMS |
| FT-ラマンIR分光器 パーキンエルマー製 SPECTRUM GX Raman | スペクトル範囲 3600～100cm-1 分解能 0.2～64cm-1 | NIMS |
| ラマン散乱分析装置 HORIBA-JY T64000 | 北陸先端大 | |
| 3D顕微レーザーラマン分光装置 東京インスツルメンツ社製 Nanofinder 30 | 分解能 200nm (３Ｄイメージ) 80nm (２Ｄイメージ) 50nm (ポイント測定) レーザー波長 442nm, 532nm, 633nm | 北陸先端大 |
| トリプルラマン分光装置 堀場製作所製T64000MW/Vis-NIR | 分光器：トリプルモノクロメータ 焦点距離：640mm レーザ：Ar,He-Ne, YAG, Ti-サファイア 加熱：～1500℃まで マッピング分解能：１μm |
信州大 |
| レーザーラマン分光光度計 JASCO NRS-1000 | 顕微システム(空間分解能 2mm) | 名大 |
| 顕微ラマン分光 RENISHAW inVia Reflex | 488, 532, 633, 785nm 100-3200cm-1 分解能：面内1μm, 深度2μm 3.2-500 K |
分子研 |
| レーザーラマン顕微鏡 ナノフォトン株式会社 | レーザー：532nm(500mW)、785(500mW) 回折格子：300,600,1200gr/mm 空間分解能：XY;350nm、Z;800nm ピーク量子効率：90％ |
大阪大 |
| 表面・界面分子振動解析装置 Spectra-Physics、東京インスツルメンツ社製 | 検出器：STREAK SCOPE C4334（浜松ホトニクス）/検出器：光電子増倍管（浜松ホトニクス）ピコ秒YAGレーザー(EKSPLA社) 励起パルス幅：1.5 ps、励起波長：400 nm付近、偏光オプション付き,測定範囲：1500～4000 cm-1 | 九州大 |
| 高速レーザーラマン顕微鏡 ナノフォトン Raman-touc | ・励起レーザー４本搭載（488nm、532nm、671nm、785nm） ・回折限界に迫る350nmの空間分解能 ・ラインスキャンによる超高速イメージング ・100 cm-1から測定可能 ・z方向１ミクロンの高い空間分解能 ・スペクトル分解能（FWHM）＝1.2cm-1 （@785nm、1200gr/mm） |
九州大 |
| レーザーラマン分光光度計 日本分光社製NRS-2000 | 測定可能範囲：40～8000 cm-1 | 九州大 |
| プローブ型顕微ラマン分光測定装置 カイザーオプティカルシステムズ社製 RAMAN RXN Systems | 搭載レーザー 785nm/400ｍW | 九州大 |
| レーザーラマン分光光度計 日本分光社製 NRS-3100KK | 波長範囲：50～8,000 cm-1、分解能：1 cm-1、励起レーザー波長：532 nm, 785 nm | 九州大 |
ICP発光分光
| ICP発光分光分析装置 島津製作所社製 ICPE-9000 | ・プラズマ光源：軸・横方向観測、ミニプラズマトーチ ・高周波電源：水晶発振器、最大出力；1.6 kW、半導体高周波回折素子 ・光学器：エシェル分光器、波長範囲：167～800 nm、半導体検出器、分解能；0.005 nm(@200 nm) |
東北大 |
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円二色性分光
| 円二色性分散計(CD) 日本分光社製 J-820 | CD/蛍光同時測定装置 ペルチェ式恒温セルホルダ付 |
千歳大 |
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| 円二色性分光器 日本分光製：円二色性 J-725 | 測定波長範囲：165～1100nm 測定レンジ：0～5Abs | NIMS |
| 電子円二色性分光装置 (ECD) JASCO製 J-820 | ペルチェ式温度コントローラ、クライオスタット装備、測定波長範囲：163〜900nm | 名大 |
| 電子円二色性分光装置 (ECD) JASCO製 J-702YS | ペルチェ式温度コントローラ、クライオスタット装備、測定波長範囲：163〜900nm | 名大 |
| 振動円二色性分光装置 (VCD) JASCO製 VCD FVS-6000 | 測定波数範囲：PV-MCT：3200〜850 cm-1、InSb：4000〜2000 cm-1 | 名大 |
| 拡散反射円二色性分光装置 (DRCD) JASCO製 PCD-466 | 固体試料の円二色性スペクトル測定 | 名大 |
| 円二色性分散計 JASCO製 J-720WI | 165-1100nm | 分子研 |
メスバウアー分光
| メスバウアー分光装置 ラボラトリ・イクイップメント社、Wissel 社 他（複合システム） | 57Fe 核，119Sn 核 透過法，内部転換電子検出法 | 名工大 |
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薄膜用紫外～赤外反射
| 非接触光学式薄膜計測システム Scientific Computing International 社製 Film Tek4000 | 膜厚測定範囲： 3nm～200μm 測定波長範囲： 190-1700nm | 千歳大 |
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| 分光エリプソメーター 日本分光社製 M-150 | 計測波長範囲： 250-850nm | 千歳大 |
| ３次非線形感受率測定装置： 自作 | Ｚスキャン方式 波長可変ナノ秒パルスレーザー | 名工大 |
| 位相変調型分光エリプソメーター 堀場製作所 UVISEL LT NIR-NNG | 波長域190nm～2100nm | 大阪大 |
レーザー
| ピコ秒レーザー Spectra-Physics, Quantronix Millennia-Tsunami, TITAN-TOPAS | 490-800nm, 1180-1700nm, >80mW@550nm, 100mW@1300nm, <5ps, 1kHz |
分子研 |
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| ナノ秒レーザー (エキシマー励起色素レーザー) Coherent Compex Pro 110, Lambda Physik LPD3002 | 320-970nm, 260-348nm, 10mJ@580nm, 1mJ@290nm, <10ns single-shot～50Hz |
分子研 |
| ナノ秒レーザー (Nd:YAG励起OPOレーザー) Spectra-Physics, Lambda Physik GCR-250, ScanmateOPPO |
426-710nm, 710nm-2135nm, 10mJ@580nm, 12ns, 10Hz | 分子研 |
| ナノ秒レーザー (フッ素系エキシマーレーザー) Lambda Physik Compex110F | 193nm 200mJ, 248nm 400mJ, 351nm 150mJ, single-shot～100Hz |
分子研 |
