真空成膜装置
| 真空蒸着装置 | 真空蒸着器 ALS社製 E-100 |
蒸発源： 8源 （同時蒸着3源） | 千歳大 |
|---|---|---|---|
| 真空蒸着器 アルバック社製 VPC-260 |
蒸発源： 1源 到達圧力 6.5 × 10-4Pa |
千歳大 | |
| 真空蒸着器 アネルバ製 L-043E-TN |
蒸発源： 3源 到達圧力 5 × 10-5Pa |
千歳大 | |
| スパッタ装置 | スパッタ装置 アルバック社製 MUE-ECO-C2 |
スパッタカソード： 2インチ マグネトロン式 × ２ 基板加熱： 最高300℃ |
千歳大 |
| 三極スパッタリング装置 アルバックサービス株式会社製 SMR 2304E |
北陸先端大 | ||
| スパッタリング蒸着装置 アルバック社製 SPC-2000HC |
13.56MHz 200W | 名工大 | |
| 誘導結合型RFプラズマ支援スパッタ装置 アルバック社製 MB02-5002 |
試料サイズ：max 2inch | 大阪大 | |
| RFスパッタ サンユー電子社製 SVC-700LRF |
試料サイズ：max 2inch | 大阪大 | |
| 薄膜作製装置 | ECRイオンシャワー製膜エッチング装置 (株式会社エリオニクス EIS-220) |
北陸先端大 | |
| 人工超格子薄膜形成システム（PLD） | 人工超格子薄膜形成システム（PLD） 誠南工業社製 PLO-020R |
ArF レーザー：193nm, ave.100mJ 試料加熱：～850℃ 酸素分圧：10E-6～5Pa 試料サイズ：max 1cm |
大阪大 |
| 有機薄膜形成装置 | 有機薄膜形成装置 誠南工業社製VCH-020R |
2Ch K-cell 試料サイズ：max 1cm |
大阪大 |
